奧林巴斯顯微鏡BX41M系列適合于金屬材料、半導體器件、磁頭、PCB鉆孔切片、引線框架等電子部品的檢查。具備先進的UIS2光學系統,提供優越的光學圖像品質,是DIC和熒光觀察的理想選擇。緊湊的Y型勻設計,人機工程學的進一步改善,使操作更為舒適。 奧林巴斯工業顯微鏡6V30W鹵素燈反射照明器,物鏡轉換器都采用防靜電設計(ESD),由1.25X至100X物鏡、長工作距離物鏡和LCD專業物鏡選配。
奧林巴斯工業顯微鏡BX41M/BX41M-ESD型適合于金屬材料、半導體器件、磁頭、PCB鉆孔切片、引線框架等電子部品的檢查。具備先進的UIS2光學系統,提供優越的光學圖像品質,是DIC和熒光觀察的理想選擇。緊湊的Y型勻設計,人機工程學的進一步改善,使操作更為舒適。
奧林巴斯工業顯微鏡6V30W鹵素燈反射照明器,物鏡轉換器都采用防靜電設計(ESD),由1.25X至100X物鏡、長工作距離物鏡和LCD專業物鏡選配。
一、奧林巴斯工業顯微鏡BX41M/BX41M-ESD型的幾大特點:
1、明場觀察:
a、圖像更明亮,在所有放大倍率下都有出色的分辨率和平坦度
b、寬視場數的PLAPON物鏡與消色差消球差聚光鏡U-AAC相結合,能夠在從低到高的放大倍率下提供優異的分辨率和平坦度。
2、偏光觀察
a、高分辨率觀察細胞的雙折射結構。
b、即使沒有染色,牙齒、骨頭、肌肉組織、神經組織、肌動凝蛋白纖維和有絲分裂軸都能觀察到。
C、有兩種中間附件用于水檢或水檢/錐光鏡。使用各種補償器,能夠觀察到大范圍的延遲,另外還可以使用專門用于偏光觀察的聚光鏡、物鏡轉換器、旋轉式載物臺、物鏡和簡易偏光附件。
3、暗場觀察
從低放大倍率到高放大倍率都有**的暗場效果。
4、相襯觀察
高對比度、高分辨率成像,能夠仔細觀察細胞內部和活**。
二、奧林巴斯工業顯微鏡BX41M/BX41M-ESD型技術參數:
1、光學系統:UIS2光學系統
2、聚焦:
載物臺垂直運動:25mm載物臺行程,帶有粗調限位器,粗調旋鈕可以調節扭力矩;
載物臺安裝位置可變,微調旋鈕高靈敏度(*小調節距離:1微米)
3、照明器:內置透射光柯勒照明器;6V30W濾色燈泡(預調中);光強預置按鈕;
4、物鏡轉盤:6孔轉換器
5、觀察筒:
寬視野(視場數22),寬視場雙目觀察筒,傾角30度,可交換的5孔;寬視場可變傾角雙目觀察筒,傾角5~35度。
超寬視野(視場數26.5);超寬視場三目觀察筒,傾角24度。
6、載物臺:
陶瓷表面同軸載物臺,帶有左手或右手低位驅動裝置,帶有旋轉裝置和扭力矩調節裝置。
可選購膠皮帽(也可提供物障礙、凹槽、同軸、平板、轉動式載物臺)。
7、聚光鏡:
阿貝(數值孔徑1.1),搖出式消色差(數值孔徑0.9);
消色差消球差(數值孔徑1.4);
相差、暗場(數值孔徑1.1);暗場干燥型(數值孔徑0.8~0.92);
暗場浸油型(數值孔徑1.20~1.40);
超低(數值孔徑0.16),用于1.25×~4×。